製造現場のデータから プロセスの 理解と制御へ。

Ali Hallal (PhD)

アプリケーション・サポート責任者

Julien Baderot (PhD)

データサイエンス責任者

Hervé Ozdoba

ソフトウェア開発責任者

Smart3 · デモ

Smart3の活用例を見る。

No-code · AFM & EBSD plugins and workflows with LLM + RAG

YouTube ↗

Pollenニュース

2026年10月13日

グルノーブルのキャリアフォーラムにPollenが参加

2026年10月14～15日、AlpexpoのOPCO AtlasブースN3で、Pollenの仕事、Smart3、採用・インターンシップの機会を紹介しました。

Pollen JNPack 2026 visual with Richard Fontanges

2026年10月12日

パッケージングデータを現場の意思決定へ

2026年10月13～14日にグルノーブルのCEA-Letiで開催された第3回JNPackに参加。Richard Fontangesが、画像、測定値、プロセスデータ、欠陥をSmart3で結び付ける方法を紹介しました。

LinkedInで見る ↗展示会サイト・画像出典 ↗

MicroLED Connect & AR/VR Connect Exhibition 2026, Eindhoven

Pollen · ブースB00

2026年9月16～17日 · 展示会

MicroLED Connect 2026に出展 — ブースB00

2026年9月16～17日、オランダ・アイントホーフェンで開催されたMicroLED ConnectおよびAR/VR Connectに、PollenがブースB00で出展しました。

GT CICERIF — Valeo — 7 septembre 2026 — FdEF

2026年9月7日 · 会合

CICERIFワーキンググループ：持続可能なエレクトロニクスへ

ValeoでのCICERIF会合を振り返ります。特にFALAISE（Failure AI for Sustainable Electronics）を取り上げ、フランス電子産業連盟のもと、イノベーションと持続可能なエレクトロニクスについて議論しました。

FdEFの投稿を見る ↗

The Pollen team together in the mountains on 8 July 2026

2026年7月8日

チームとともに、新たな節目へ

Pollenの新たな節目を祝い、チーム、お客様、パートナーに感謝する山での一日。ハイキング、Altitude 2000での昼食を通じて、信頼、情熱、チームワークを分かち合いました。

Pollen & STMicroelectronics — PESM 2026 — Augmented Engineer — Julien Baderot

2026年6月8～9日 · 学会

PESM 2026：STMicroelectronicsとプラズマシミュレーション・実プロセスを接続

Julien Baderotがグルノーブルで紹介したPollenとSTMicroelectronicsのFDSOIゲートに関する共同研究。AIによるTEM自動計測、デジタルツイン、プラズマエッチングの多目的最適化を組み合わせ、プロセスウィンドウの特定を加速します。

論文・記事

Smart3を支える科学。

注目の6件の研究と、Pollenを紹介するメディア記事をご覧ください。計測、欠陥解析、オープンな基盤、プロセス最適化を、製造現場の用途に結び付けます。

注目記事 · SemiWiki

10年の開発から製造現場で活用されるAIプラットフォームへ

Lauro Rizzattiが、Smart3の開発と、半導体・先端材料分野でデータ、装置、専門知識を結び付ける役割を紹介します。

Lauro Rizzatti · 2026-09-29

SemiWikiで読む ↗

注目の研究

SPIE · 2026出版済み

Infinitesima

大面積AFM画像のスティッチング

Infinitesimaとの共同研究。高速AFM画像を組み合わせ、大面積マップを構築し、Smart3で解析します。

書誌情報

Advancements and challenges in large-scale atomic force microscopy image stitching for semiconductor devices

著者: Julien Baderot, Ali Hallal (Pollen); Matthew Tedaldi, Richard Thomas, Andrew D. L. Humphris (Infinitesima); Johann Foucher (Pollen)
掲載誌・学会: SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026, Metrology, Inspection, and Process Control XL (Proc. SPIE)

EMLC / SPIE · 2024出版済み

Metrospection：計測と検査の統合

パターンからウェハまでの計測と欠陥検出を統合し、エンジニアが設定できるオープンな基盤で扱います。

書誌情報

Metrospection: holistic AI-driven process control software platform dedicated to metrology and defectivity for patterning process at die and wafer levels

著者: Julien Baderot, Ali Hallal, Martin Jacob, Sergio Martinez, Johann Foucher (Pollen)
掲載誌・学会: 39th European Mask and Lithography Conference (EMLC 2024), Proc. SPIE 13273, 132731J

SPIE · 2026出版済み

オープンAI基盤とデジタルツイン

データの前処理、モデル化、プロセス最適化をつなぎ、独自アルゴリズムの統合にも対応します。

書誌情報

Open collaborative AI platform to support process optimization for semiconductor industry with digital twin

著者: Julien Baderot, Marion Grould, Ali Hallal, Johann Foucher (Pollen)
掲載誌・学会: SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026, DTCO and Computational Patterning V (Proc. SPIE)

PESM · 2026学会要旨・口頭発表

STMicroelectronics

Augmented Engineer：プラズマシミュレーションと実測データ

STMicroelectronicsとの共同発表。ノーコードAIでシミュレーションとプロセスデータをつなぎ、最適化のトレードオフ検討を支援します。

書誌情報を見る ↗

書誌情報

Augmented Engineer: A No-Code AI Application Layer for Bridging the Gap Between Plasma Simulation and Real-World Processing

著者: Julien Baderot, Marion Grould (Pollen); Caroline Lacomme, Linda Parmigiani (STMicroelectronics); Ali Hallal, Hervé Ozdoba, Johann Foucher (Pollen)
掲載誌・学会: PESM 2026 (Plasma Etch and Strip in Microelectronics), June 2026, oral presentation

SPIE Photomask · 2024出版済み

AR/VR構造のための適応型計測

TEMの傾斜格子とCD-SEMの構造を測定し、Metaのプロセス開発に合わせてワークフローを進化させます。

書誌情報

Scalable and adaptable structural metrology for AR/VR device images based on deep learning

著者: Subhei Shaar, Maclean Harned, Bo Zhao, Kundan Chaudhary, Raja Muthinti (Meta); Ali Hallal, Martin Jacob, Julien Baderot, Sergio Martinez, Johann Foucher (Pollen)
掲載誌・学会: SPIE Photomask Technology 2024, Proc. SPIE 13216, 132161H

JVST B · 2022学術誌論文

深層学習によるSEM/TEM自動計測

PollenのAI計測の基礎。利用者の例示から、アノテーション、検出、領域分割、測定を行います。

書誌情報

Application of deep-learning based techniques for automatic metrology on scanning and transmission electron microscopy images

著者: J. Baderot, M. Grould, D. Misra, N. Clément, A. Hallal, S. Martinez, J. Foucher (Pollen)
掲載誌・学会: Journal of Vacuum Science & Technology B 40, 054003 (2022)

すべての論文・アーカイブを見る ↗

ともに構築する

どのプロセスを改善したいですか？

データ、用途、目標をお聞かせください。具体的な最初のステップを一緒に検討します。

Pollen

122 rue Rocher de Lorzier
38430 Moirans, France